離子膜燒堿
離子膜燒堿
來源：
時間：2025-05-26
燒堿：
濃度：31%、45%
執(zhí)行標準：工業(yè)用氫氧化鈉GB 209-2006? 高純氫氧化鈉GBT11199-2006
性質：化學名稱為氫氧化鈉，本品為略帶粘稠液體，具有強氧化性，能與酸、鹵素物質起化學反應。
工藝：離子膜法。離子膜燒堿裝置采用的模極距自然循環(huán)電解槽在國內(nèi)同行業(yè)中是領先的，該技術的應用在燒堿消耗上和國內(nèi)同行業(yè)比每噸節(jié)省約100度電。
用途：廣泛用于化工、冶金、造紙、石油、紡織品以及日用化工等部門。
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